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Ionenstrahlanwendungen

HV-Lösungen zur Versorgung von Ionenstrahlanwendungen

System aus verschiedenen Serien von Hochspannungsversorgungen und Umschalteinheiten für die Spannungsversorgung einer Ionenstrahlanlage. Das System lässt sich mit Hilfe einer digitalen Schnittstelle kontrollieren. Es ist aufgrund des Master-Slave-Betriebes des MMC-Systems nahezu beliebig erweiterbar.

Solution for multiple HV supply in ion-beam applications
Hochspannungsversorgungen für den gesamten Ionenstrahl-Prozess.
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EBS 3U - bipolares 4-Kanal HV-Modul

Die 3U Variante des EBS lässt sich in das Crate ECH 12A integrieren. Es verfügt über bis zu vier Kanäle mit einer Ausgangsspannung von bis zu 500 V. Aufgrund seines vier Quadranten Betriebes, ist es sehr geeignet für die Verwendung als Spannungsversorgung für eine Deflektor Einheit in einer Ionenstrahlapplikation.

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WIEN-Filter HV-Versorgung

Das 3U Hochspannungsmodul besteht aus zwei integrierten BPS und kann von einem Crate ECH12A aufgenommen werden. Die Modul ist bestens geeignet, einen Wien-Filter in einer Ionenstrahlapplikation zu versorgen.

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19 kV HV switch

Das 3U Schaltmodul verfügt über zwei Eingänge und einen Ausgang und lässt sich in das Crate ECH 12A integrieren. Der Ausgang wird mit Hilfe eines Schalters mit einem Eingang verbunden. Dieser Schalter kann bis zu 19 kV isolieren. Das Modul kann mit zwei CPS Modulen genutzt werden, um eine elektrostatische Linse in einer Ionenstrahlapplikation zu versorgen.

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